Τρισιλάνιο

Από τη Βικιπαίδεια, την ελεύθερη εγκυκλοπαίδεια
Τρισιλάνιο
Γενικά
Όνομα IUPAC Τρισιλάνιο
Άλλες ονομασίες Σιλικοπροπάνιο
Χημικά αναγνωριστικά
Χημικός τύπος Si3H8
Μοριακή μάζα 92,32 amu
Αριθμός CAS 7783-26-8
SMILES [SiH3][SiH2][SiH3]
InChI 1S/H8Si3/c1-3-2/h3H2,1-2H3
Αριθμός UN 3194
ChemSpider ID 1S/H8Si3/c1-3-2/h3H2,1-2H3
Δομή
Μήκος δεσμού 143 pm (Si-H)
222 pm (Si-Si)
Είδος δεσμού ομοιοπολικός
σ (1s-3sp3) (SiH)
ομοιοπολικός
σ (3sp3-3sp3) (Si-Si)
Πόλωση δεσμού 2% (Si+H-)
Γωνία δεσμού 109°28'
Μοριακή γεωμετρία τριτετραεδρική
Φυσικές ιδιότητες
Σημείο τήξης −117 °C
Σημείο βρασμού 53 °C
Πυκνότητα 743 kg/m³
Διαλυτότητα
στο νερό
Αδιάλυτο με αργή υδρόλυση
Τάση ατμών 12,7 kPa
Εμφάνιση Άχρωμο υγρό
Δυσάρεστη οσμή
Χημικές ιδιότητες
Ελάχιστη θερμοκρασία
ανάφλεξης
< −40 °C
Σημείο αυτανάφλεξης < 50 °C
Επικινδυνότητα
Πυροφορικό
Εκτός αν σημειώνεται διαφορετικά, τα δεδομένα αφορούν υλικά υπό κανονικές συνθήκες περιβάλλοντος (25°C, 100 kPa).

Το τρισιλάνιο (αγγλικά: trisilane) είναι ανόργανη ομοιοπολική χημική ένωση, που περιέχει πυρίτιο και υδρογόνο, και έχει μοριακό τύπο Si3H8. Το χημικά καθαρό τρισιλάνιο, στις «συνηθισμένες συνθήκες», δηλαδή σε θερμοκρασία 25 °C και υπό πίεση 1 atm, είναι άχρωμο υγρό, με δυσάρεστη οσμή. Το τρισιλάνιο είναι το πυριτιούχο ανάλογο του προπανίου, με το οποίο έχει παρόμοια μοριακή δομή, παρόλο που το τρισιλάνιο είναι πολύ πιο δραστικό. Ο όρος τρισιλάνιο μπορεί, ακόμη να αναφέρεται, όχι μόνο στη «μητρική» ένωση, αλλά και σε μια σειρά από ανόργανες και οργανικές «θυγατρικές» ενώσεις με γενικό τύπο Si3R8, όπου τα R, που δεν είναι αναγκαστικά τα ίδια, μπορεί να είναι υδρογόνο, αλογόνο, ή μονοσθενείς ανόργανες και οργανικές ρίζες. Επίσης δύο ή τρία R μπορεί να αντικατασταθούν από μια δισθενή ή τρισθενή ρίζα, αντιστοίχως, σχηματίζοντας έτσι και ετεροκυκλικά τρισιλάνια.

Ανακάλυψη[Επεξεργασία | επεξεργασία κώδικα]

Το τρισιλάνιο ανακαλύφθηκε το 1916 από τους Καρλ Σομιέσκυ (Carl Somieski) και Άλφρεντ Στοκ (Alfred Stock), κατά τη διάρκεια έρευνάς τους πάνω στη χημική αντίδραση μεταξύ υδροχλωρικού οξέος (HCl) και πυριτιούχου μαγνησίου (Mg2Si). Αυτή η αντίδραση είχε εξερευνηθεί παλαιότερα, από το 1857 από τους Φρήντριχ Βέλερ (Friedrich Woehler) και Χάιντριχ Μπαφφ (Heinrich Buff), καθώς επίσης και από τους Ανρί Μουασάν (Henri Moissan) και Σάμουελ Σμάιλς (Samuel Smiles), το 1902. Η διάσπαση του πυριτιούχου μαγνησίου παράγει ένα μίγμα σιλανίων, αλλά το τρισιλάνιο είχε αρχικώς ρητά ταυτοποιηθεί από τους Σομιέσκυ και Στοκ. Αρχικά είχε ονομαστεί «σιλικοπροπάνιο», και ταυτοποιήθηκε ως μέλος της ανόργανης ομόλογης σειράς αντίστοιχης με τα αλκάνια, που περιλάμβάνε (τότε) το σιλικοβουτάνιο, δηλαδή το τετρασιλάνιο κατά IUPAC, (Si4H10), το σιλικοπεντάνιο, δηλαδή το πεντασιλάνιο (Si5H12), και το σιλικοεξάνιο, δηλαδή το εξασιλάνιο (Si6H14).

Σύνθεση[Επεξεργασία | επεξεργασία κώδικα]

Το τρισιλάνιο είναι ένα ιχνοπροϊόν της αντίδρασης μεταξύ σιλενίου (SiH2) και υδροχλωρίου (HCl). Αυτή η αντίδραση πραγματοποιείται με τη χρήση λέιζερ υπερύθρων. Το λέιζερ τοποθετείται σε ένα κυλινδρικό κελί από ανοξείδωτο χάλυβα κάθετα σε σχέση με το φασματόμετρο μάζας. Το τρισιλάνιο μπορεί επίσης να παραχθεί με τη χρήση της διεργασίας Σχλέσιγκερ (Schlesinger process). Σε αυτήν τη διεργασία αντιδρά λιθιοαργιλιοϋδριδιο (LiAlH4) με οκταχλωροτρισιλάνιο (Si3Cl8) σε διβουτυλαιθέρα (Bu2O). Το τρισιλάνιο παράγεται επίσης με θερμική αποσύνθεση (μονο)σιλανίου (SiH4) και δισιλανίου (Si2H6) σε υψηλότερες θερμοκρασίες, όπως επιδείχθηκε από τους Μποουρεϋ (Bowrey), Πάρνελλ (Purnell) και Γουάλς (Walsh), στη δεκαετία του '60.

Αντιδράσεις αποσύνθεσης[Επεξεργασία | επεξεργασία κώδικα]

Η αποσύνθεση τρισιλανίου είναι (ουσιαστικά) μια 1,2-μετατόπιση υδρογόνου που παράγει σιλάνιο, δισιλάνιο, (κανονικό) τετρασιλάνιο, ισοτετρασιλάνιο, (κανονικό) πεντασιλάνιο και ισοπεντασιλάνιο. Ο προτεινόμενος μηχανισμός εμπλέκει τα κατώτερα αχρησιμοποίητα τροχιακά 4s και 3d του πυριτίου:[1]

Εφαρμογές[Επεξεργασία | επεξεργασία κώδικα]

Ερευνάται η χρήση τρισιλανίου σαν φορέας πυριτίου για πυροβόλα πλάσματος. Η διεργασία αυτή μπορεί να εφαρμώσει πυρίτιο σε λεπτά στρώματα για ημιαγωγούς και άλλες παρόμοιες εφαρμογές. Μια από τις περισσότερο υποσχόμενες εφαρμογές θα μπορούσε να είναι μια οικονομικότερη διεργασία παραγωγής φωτοβολταϊκών. Το γεγονός ότι το τρισιλάνιο είναι υγρό στους 20°C δίνει το πλεονόκτημα ότι έτσι είναι αυξημένη η ροή πυριτίου σε σύγκριση με τα αέρια σιλάνια. Ανάλογα με την εφαρμογή, ένα μίγμα αερίων, υγρών ή και στερεών ίσως να είναι επιθυμητό. Η αλλαγή στη σύνθεση των φορέων επιτρέπει μια ποικιλία πάχους επικάλυψης και σταγονίδια από σπρέυ μπορούν να στερεοποιηθούν πάνω σε ένα υλικό. Τα σταγονίδια αυτά μπορεί επονομάζονται «νομίσματα» (coins). Ο σχηματισμός των «νομισμάτων» αυτών είναι ο λόγος για τον οποίο ο φορέας πρέπει να επιλεχθεί προσεκτικά, γιατί κενά μεταξύ των «νομισμάτων» μπορεί να οδηγήσουν σε μη ολοκληρωμένη εφαρμογή πυριτίου πάνω σε ένα υλικό.[2]

Το πυρίτιο είναι χρήσιμο ως ημιαγωγός σε πολλές εφαρμογές υλισμικού υπολογιστών. Είναι σταθερό και λειτουργεί καλά σε τέτοιες συνθήκες. Εξαιτίας της φύσης του πυριτίου, λειτουργεί καλύτερα σε μικρότερες κλίμακες, γεγονός που καθιστά το πυρίτιο ακόμη πιο επιθυμητώ σε νανοσύρματα (nanowires). Οι προηγούμενες μέθοδοι ανάπτυξης νανοσυρμάτων ενέπλεκαν σύστημα υλικού υπερκρίσιμου ρευστού - υγρού - στερεού (Supercritical Fluid-Liquid-Solid, SFLS) σε οργανικούς διαλύτες, σε θερμοκρασίες πάνω από 400 °C και πιέσεις πάνω από 100 bar. Οι υψηλές ενεργειακές απαιτήσεις, ο εξειδικευμένος εξοπλισμός και ο σχηματισμός ανεπιθύμητων παραπροϊόντων περιόριζαν την παραγωγή νανοσυρμάτων με τις μεθόδους αυτές. Αντίθετα, οι μέθοδοι που εμπλέκουν τρισιλάνιο έχουν πολλά πλεονεκτήματα έναντι των μεθόδων SFLS: Όχι μόνο μπορούν να εφαρμοστούν υπό κανονική ατμοσφαιρική πίεση (δηλαδή 1 atm), αλλά μπορούν να εφαρμοστούν στους 363 °C, με μήτρα βισμουθίου, και αρκούν μόλις 264°C με μήτρα χρυσού. Η μέθοδος τρισιλανίου είναι μια μέθοδος διαλύματος - υγρού - στερεού (Solution-Liquid-Solid, SLS) και είναι σχετικά καθαρή, δηλαδή με σχετικά μικρή συμμετοχή άμορφου πυριτίου άλλων ανεπιθύμητων παραπροϊόντων. Η διεργασία αυτή είναι ακόμη στα «σπάργανα», αλλά τα πλεονεκτήματά της την κάνουν να αξίζει να εξερευνηθεί περισσότερο[3].

Παρατηρήσεις, υποσημειώσεις και αναφορές[Επεξεργασία | επεξεργασία κώδικα]

  1. Kinetics of the Thermal Decomposition of Methyldisilane and Trisilane. A.J. Vanderwielen, M.A. Ring, H.E. O’Neal. JACS, 97:5, March 5, 1975
  2. United States Patent Application Publication. Pub No. US 2012/0252190 A1, OCT, 4, 2012. Zehavi et al.
  3. Solution-Liquid-Solid (SLS) Growth of Silicon Nanowires". Andrew T. Heitsch, Dayne D. Fanfair, Hsing-Yu Taun, and Brian A. Korgel. JACS, March, 29, 2008.